国立研究開発法人物質・材料研究機構
プラズモニクスの新世代: 高性能窒化チタン膜
国立研究開発法人物質・材料研究機構
プラズモニクスの新世代: 高性能窒化チタン膜
この特許は、プラズモニクス特性を持つ窒化チタン(TiN)膜の提供およびその製造方法に関するものです。該当のTiN膜は連続性があり、無孔で、表面粗さが10nm以下であることが特徴です。これにより、化学的及び機械的安定性が良好で、高い熱安定性を持つとともに、CMOSプロセスとの相性が良好であるという利点があります。また、本発明により、基板温度0℃～60℃の温度範囲で、堆積速度が0.3Å/s～100Å/sの範囲で成膜を行う製造方法が提供され、これにより、従来の製造方法の問題点が改善されます。
つまりは、画期的なプラズモニクス特性を持つ窒化チタン膜の開発とその製造方法についての特許
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業光学機器製造業マイクロエレクトロニクス
- 高性能プラズモニクスデバイスの開発
- 高温デバイスへの応用
- 熱アシスト磁気記録(HAMR)向けの材料としての利用
このプラズモニクス特性を持つ窒化チタン膜は、高性能なプラズモニクスデバイスの開発に利用できます。これにより、プラズモニクスデバイスの性能を大幅に向上させることが可能になります。
高い熱安定性を持つこの窒化チタン膜は、高温デバイス分野への応用が期待されます。具体的には、高温での動作が必要な電子機器や光熱変換器などの部品として使用することができます。
この窒化チタン膜は、熱アシスト磁気記録(HAMR)の用途にも適しています。従来、この用途では金(Au)が使用されていましたが、窒化チタン膜は高温でのAuと同程度のプラズモニクス特性を有するため、Auの代わりとして使用することで、性能の改善が期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-216426 |
| 発明の名称 | プラズモン特性を有する窒化チタン膜及びその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2019-085629 |
| 登録番号 | 特許第0007378755号 |
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