国立研究開発法人情報通信研究機構
高度な真空作成が可能な新型装置
国立研究開発法人情報通信研究機構
高度な真空作成が可能な新型装置
本発明は、超高真空環境の作成維持技術に関するもので、特にデバイス開発やナノサイエンスに関連する。本装置は、円筒状ケーシングの外側に設けられたヒータと多段磁石を備え、これらを用いて真空処理を行う。また、円筒状のケーシングの内壁に接触したゲッターエレメントを活性化することで、高度な真空状態を実現する。従来の真空イオンポンプが重厚長大であるのに対して、本装置はコンパクトでありながら、イオンポンプとゲッターポンプを併用することが可能である。これにより、スペース効率と排気性能の両立を実現している。また、中空円筒内部に機能性ユニットが組み込めるため、装置の構造を柔軟に設計することが可能である。
つまりは、コンパクトでありながら、イオンポンプとゲッターポンプの併用が可能な真空作成装置。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 ナノテクノロジーデバイス製造科学研究
- 真空環境下での材料分析
- ナノスケールのデバイス製造
- 高分解能の電子顕微鏡利用
本装置を用いて、超高真空環境を作成し、材料の分析を行う。これにより、外部の汚染を避けながら、精密な分析が可能となる。
ナノスケールのデバイス製造においては、コンタミネーションを極力避ける必要があり、本装置の使用により、その内部を超高真空状態に維持することが可能となる。
高分解能の電子顕微鏡では、顕微鏡内部を超高真空状態に維持することで、高い空間分解能を実現する。本装置を用いることで、この環境を効率的に作り出すことが可能となる。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-218434 |
| 発明の名称 | 真空作成装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 |
| 公開番号 | 特開2019-091576 |
| 登録番号 | 特許第0007008976号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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