国立研究開発法人産業技術総合研究所
高効率なクラスター膜製造技術
東京
登録情報の修正申請国立研究開発法人産業技術総合研究所
高効率なクラスター膜製造技術
東京
登録情報の修正申請本発明は、パルスレーザーを用いたクラスター膜の製造方法および装置に関するもので、ターゲット材料から生成されたクラスターを基板上に散布し、高品質な膜を効率的に形成する技術です。これにより、様々な産業分野において高性能な薄膜を提供できます。
つまりは、クラスター膜を生成するための革新的な製造技術
AIによる特許活用案
おすすめクラスター膜 パルスレーザー 薄膜製造
- 半導体製造への応用
- 光学デバイスでの利用
- エネルギー分野での薄膜技術への応用
クラスター膜を高精度で形成し、半導体デバイスの製造に応用する技術。
高品質なクラスター膜を用いて、光学デバイスの性能を向上させる技術。
クラスター膜の技術をエネルギー貯蔵デバイスや太陽電池に応用し、効率を高める技術。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2005-085447 |
| 発明の名称 | クラスター膜製造方法および製造装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 住所 | 東京 |
| 公開番号 | 特開2006-265627 |
| 登録番号 | 特許第4500941号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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