国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度な微細パターン形成技術
東京
登録情報の修正申請国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度な微細パターン形成技術
東京
登録情報の修正申請本発明は、基板上に触媒や抵抗体の微細パターンを形成する技術に関するものです。ディスペンサを用いてナノメートルレベルの粒子を精密に塗布し、触媒反応や熱電発電における高効率化を実現します。ガスセンサや発電素子の製造にも応用され、幅広い産業での利用が期待されています。
つまりは、触媒や抵抗体を基板上に精密にパターン形成する革新的技術
AIによる特許活用案
おすすめ微細パターン ガスセンサ 熱電発電
- ガスセンサ製造への応用
- 熱電発電素子への応用
- 電子機器での精密パターン形成
微細パターン形成技術を用いて、可燃性ガスを高精度で検知できるガスセンサを製造する技術。
高効率な熱電発電素子を製造するために、ナノメートルレベルの粒子を用いた微細パターン形成技術を応用する技術。
精密な抵抗体や触媒のパターン形成を行い、電子機器における効率的な機能向上を実現する技術。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2005-067297 |
| 発明の名称 | 微細パターン形成方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 住所 | 東京 |
| 公開番号 | 特開2006-047276 |
| 登録番号 | 特許第4581113号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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