国立大学法人東京工業大学
革新的なホウ素原子層液晶とその製造方法
国立大学法人東京工業大学
革新的なホウ素原子層液晶とその製造方法
本特許は、ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶とその製造方法を紹介しています。この液晶は、ホウ素と酸素を骨格元素として持ち、ホウ素-ホウ素結合による非平衡結合でネットワーク化されています。さらに、酸素とホウ素のモル比率は1.5未満であり、複数の原子層シート間には金属イオンとしてアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを内包しています。製造方法としては、この液晶を100度以上に加熱し、加熱によって前記原子層シート間の距離を増加させる工程を含みます。さらに、有機溶媒を含む溶媒中に、不活性ガス雰囲気下でMBHを添加し溶液を調製し、この溶液を酸素を含む雰囲気に晒すことによって原子層シートを製造する方法も提供されています。
つまりは、特許JP 6656564 B2は、ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶とその製造方法に関するものです。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 ナノテクノロジー材料科学化学工業
- 高性能ディスプレイの開発
- 環境対応型製造プロセスの展開
- 新規材料の提供
本特許のホウ素原子層シートの液晶は、その特異な物性を活かして高性能な液晶ディスプレイの開発に利用可能です。特に、分子の長周期的な配向性と流動性を同時に発現する能力は、ディスプレイの高精細化や応答速度向上に貢献すると考えられます。
本製造方法は、100度以上という比較的低温での加熱工程を含むため、エネルギー効率の良い製造プロセスとして位置付けることができます。また、不活性ガス雰囲気下での製造工程は、製造環境の安全性を高め、製造工程全体の環境負荷を低減する可能性があります。
本特許で提供されるホウ素原子層シートの液晶は、その独特な構造と物性から、各種の産業分野で新規の基礎材料として利用することが可能です。特に、ナノテクノロジー、材料科学、化学工業などの分野で、その応用範囲を広げることが期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2019-005297 |
| 発明の名称 | ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人東京工業大学 |
| 公開番号 | 特開2019-137601 |
| 登録番号 | 特許第0006656564号 |
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