国立大学法人電気通信大学
光学過程を効率的に操作するレーザー装置
国立大学法人電気通信大学
光学過程を効率的に操作するレーザー装置
本特許は、線形及び非線形光学過程を効率よく操作する方法とレーザー装置に関するもので、離散的なスペクトルの強度分布、偏光分布、スペクトル位相を任意に変化させることが可能である。これにより、種々の光波形を持つレーザー光を作り出すことが可能となる。また、複雑な構成を用いることなく非線形光学特性を操作でき、高出力且つビーム品質の高い長波長域や短波長域のレーザー光を長期間照射できる。これにより、より敏細かつ高精度な加工を実現することが可能となる。
つまりは、高出力でビーム品質の高い長波長域や短波長域のレーザー光を長期間照射できるレーザー装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 光学製品製造半導体製造レーザー加工
- 高精度レーザー加工
- 光学系の設計・評価
- 高出力レーザー光源としての利用
高出力且つビーム品質の高いレーザー光を長期間照射できる本装置を用いることで、より敏細かつ高精度なレーザー加工が可能となる。具体的には、微細加工やデバイス製造などに利用できる。
本装置は、光の強度分布、偏光分布、スペクトル位相を任意に変化させることが可能であるため、光学系の設計や評価に活用できる。特に、光学系の特性を詳細に評価したい研究開発などに有効である。
高出力且つビーム品質の高いレーザー光を長期間照射できるため、リソグラフィ用の光源や短波長加工レーザー光源等の用途に適している。これにより、半導体製造などの分野での高品質な出力が求められる場面において有効である。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2019-085780 |
| 発明の名称 | レーザ装置 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人電気通信大学 |
| 公開番号 | 特開2019-164363 |
| 登録番号 | 特許第0006895689号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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