【国立研究開発法人産業技術総合研究所】低温下での安定したフェニルホスフィン酸メンチルの製造技術
【国立研究開発法人産業技術総合研究所】
低温下での安定したフェニルホスフィン酸メンチルの製造技術
東京
エーテル溶媒中で低温反応を行い、安定したフェニルホスフィン酸メンチルを生成する技術
本発明は、-10℃から-100℃の低温下で、メンチル基とジクロロフェニルホスフィンを反応させ、加水分解によってフェニルホスフィン酸メンチルを製造する方法に関するものです。この技術は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を使用して安定した製品を生成し、医薬品や化学品の製造に応用されます。
AIによる特許活用案
おすすめフェニルホスフィン酸 メンチル基 低温反応
- 医薬品製造プロセスへの応用
- 化学工業における触媒の製造
- 高精度な化学品製造プロセスへの応用
フェニルホスフィン酸メンチルを使用して、医薬品の中間体として安定した化学物質を提供する技術。
低温反応を利用して、化学工業で使用される触媒を効率的に製造する技術。
低温下での反応制御を行い、精密化学品の製造プロセスに応用する技術。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2004-329205 |
| 出願日 | 2004/11/12 |
| 発明の名称 | フェニルホスフィン酸メンチルの製造方法。 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 住所 | 東京 |
| 公開番号 | 特開2006-137710 |
| 登録番号 | 特許第4649590号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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