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高機能ナノシートの新時代:磁気メモリとしての利用を可能に

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現1-2-1

この技術でできること

本特許では、機能性ナノシートとその製造方法、およびその用途に関する技術が開示されています。具体的には、カルボキシル基または活性エステル基を有する酸化グラフェンまたは還元型酸化グラフェンであるナノシートと、少なくともアミノ基を有するフェロセンまたはフェロセンの誘導体である有機金属錯体とを非プロトン性極性溶媒を含有する分散媒に分散させ、反応させるステップを包含する製造方法が記載されています。さらに、この機能性ナノシートは、温度情報を記憶する磁気メモリとして利用できます。

本特許は、機能性ナノシートの製造方法とその用途に関するもので、特に磁気メモリとしての利用が可能とされています。

技術の特徴

掲載画像
機能性ナノシート磁気メモリ製造方法ナノテクノロジー酸化グラフェン

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体業界電子機器製造業研究開発業

高性能磁気メモリの開発

本特許の技術を利用することで、高性能な磁気メモリの開発が可能となります。従来の記憶媒体よりも高速で大容量のデータ保存が可能となるため、情報処理速度の向上や電力消費の削減に繋がると考えられます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2018-148979
発明の名称
機能性ナノシート、その製造方法およびそれを用いた用途
出願人/権利者
国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所
茨城県つくば市千現1-2-1
公開番号
特開2020-022936
登録番号
特許第7113501号
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