国立研究開発法人物質・材料研究機構
高性能な磁気抵抗素子の開発

国立研究開発法人物質・材料研究機構
高性能な磁気抵抗素子の開発
本特許では、ホイスラー合金を用いた面直方向磁気抵抗素子の詳細な構造とその製造方法について説明しています。この抵抗素子は、シリコン基板、ガラス基板、金属基板、MgO基板などの基板上に形成される下地層と、その下地層に積層されるホイスラー合金からなる面直方向磁気抵抗素子を特徴とします。下地層はAg、Al、Cu、Au、Crなどからなる金属又は合金を含みます。また、この特許では、上部強磁性層や下部強磁性層にピニング層を設けることも特徴としています。これらの技術は、磁気ヘッドや磁気再生装置の性能向上に貢献します。
つまりは、面直方向磁気抵抗素子の詳細な構造と製造方法を提供する特許
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器データストレージハードウェア開発
- 高性能磁気ヘッドの開発
- 高効率な磁気再生装置の製造
- 新規データストレージデバイスの設計
本特許の技術を活用して、高性能な磁気ヘッドを開発することができます。独自のホイスラー合金と特殊な構造を採用することで、従来の技術よりも優れた性能を持つ磁気ヘッドを製造することが可能となります。
本特許に記載の面直方向磁気抵抗素子を用いることで、高効率な磁気再生装置を製造することが可能です。これによって、データの読み取り速度や精度を向上させることができます。
この特許技術は、新規のデータストレージデバイスの設計にも活用することができます。特に、大容量データの保存と迅速なアクセス性能が要求されるデータセンターやクラウドストレージの分野での利用が期待されます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2019-199742 |
発明の名称 | 磁気抵抗素子、当該磁気抵抗素子を用いた磁気ヘッド及び磁気再生装置 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
公開番号 | 特開2020-024777 |
登録番号 | 特許第0006774124号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です