東京応化工業株式会社
高温でも安定した基板加熱装置
東京応化工業株式会社
高温でも安定した基板加熱装置
本特許は、基板の加熱温度を高く設定でき、かつチャンバ内部への昇華物の付着を抑制する基板加熱装置および基板処理システムを提供します。具体的には、加熱処理空間に配置されたガラスを使用することで、基板の塗布面からチャンバの対向面へ向かうヒュームをガラスで遮り、チャンバ内部への昇華物の付着を抑制します。これにより、基板の加熱温度が制限されず、より広範で効率的な加熱処理が可能となります。
つまりは、チャンバ内部への昇華物の付着を抑制し、基板の加熱温度が制限されにくい基板加熱装置と基板処理システム。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業半導体製造業化学工業
- 高温での基板加熱による効率的な生産
- 清潔な製造環境の維持
- 環境負荷の低減
基板の加熱温度が制限されず、より広範で効率的な加熱処理が可能となるため、生産効率の向上が期待できます。また、高温での基板加熱による品質向上や新しい材料の採用など、製品開発の幅を広げることが可能となります。
チャンバ内部への昇華物の付着を抑制することで、装置の内部を常に清潔に保つことが可能となります。これにより、装置のメンテナンスコストを削減し、製品の品質を一定に保つことができます。
昇華物の付着を抑制することで、装置のクリーニング頻度を減らすことが可能となります。これにより、クリーニングに使用する化学薬品の使用量を削減し、環境負荷を低減することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2018-153499 |
| 発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム |
| 出願人/権利者 | 東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 | 特開2020-027919 |
| 登録番号 | 特許第0007178823号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です