学校法人東京電機大学
革新的なシリコン微粒子製造法
学校法人東京電機大学
革新的なシリコン微粒子製造法
本特許は、表面に微細な孔を有するシリコン微粒子の製造方法を提供します。具体的には、遷移金属イオンを含む溶液にシリコン微粒子を浸漬し、シリコン微粒子の表面に遷移金属粒子を析出させます。その後、フッ化水素酸でエッチングを行い、遷移金属粒子との接触部が酸化されたシリコン微粒子の表面に微細な孔を形成します。この方法は、簡易な操作と安価な材料を用い、コストや手間を削減することが可能です。また、エネルギー関連製品や半導体分野など、幅広い分野での応用が期待されます。
つまりは、遷移金属イオン含む溶液にシリコン微粒子を浸漬し、シリコン微粒子表面に遷移金属粒子を析出させるシリコン微粒子の製造法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業エネルギー業界化学業界
- 高性能な太陽電池の開発
- ナノレベルの微細加工技術の進化
- リチウムイオン二次電池の高容量化
本特許の技術を用いて、表面に微細な孔を有するシリコン微粒子を製造し、これを太陽電池の発電素子として利用することで、発電効率の向上が期待されます。
本特許の技術は、ナノレベルの微細加工技術を進化させる可能性があります。遷移金属粒子を析出させることにより、微細な孔を持つシリコン微粒子を製造でき、これは半導体製品の性能向上に寄与する可能性があります。
本特許の技術を利用して製造されたシリコン微粒子は、リチウムイオン二次電池の高容量負極材料として利用することが可能です。これにより、電池の容量低下問題を解決し、高容量化を実現することが期待されます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 | ASK 実証実験 | ASK サンプル・プロトタイプ | ASK
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2018-192870 |
| 発明の名称 | 表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子 |
| 出願人/権利者 | 学校法人東京電機大学 |
| 公開番号 | 特開2020-059632 |
| 登録番号 | 特許第0007224594号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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