東京応化工業株式会社
革新的な基板加熱装置で業界をリード
東京応化工業株式会社
革新的な基板加熱装置で業界をリード
この基板加熱装置は、基板を収容可能な収容空間が内部に形成されたチャンバ、基板の一方面側及び他方面側の少なくとも一方に配置されるとともに、基板を加熱可能な基板加熱部、少なくとも一部が収容空間に配置された検知部、検知部において収容空間に配置された部分を少なくとも保護する保護部材を含むことを特徴とします。この構成は、基板から検知部へ向かう昇華物を保護部材で遊ぶことができ、検知部への昇華物の付着を制御し、基板の温度管理を容易にします。基板加熱部は、基板を赤外線によって加熱可能な赤外線ヒータを含んでいても良く、これにより、基板の収容空間に異物が巻き上げられるリスクを低減することができます。
つまりは、本特許は、昇華物の付着を抑制し、基板の温度管理を容易にする基板加熱装置に関する。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造半導体産業高精度機器製造
- 高品質電子部品の製造
- 省力化と効率化の推進
- 高性能半導体の開発
この基板加熱装置は、電子部品の製造工程における基板の加熱処理を改善し、高品質な電子部品を生産するために活用することができます。基板への昇華物の付着を抑制し、温度管理を容易にすることで、製品の品質を一貫して保つことが可能になります。
この基板加熱装置は、従来の加熱工程に比べて異物の巻き上げリスクを低減し、製造工程の省力化と効率化を推進します。これにより、生産ラインの稼働時間を最大限に活用し、生産性の向上に寄与することができます。
この基板加熱装置は、半導体の製造工程においても活用することが可能です。特に、高性能な半導体を開発する際には、基板の加熱と冷却の管理が重要となるため、精密な温度管理が可能な本装置の活用は大いに有益でしょう。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2019-022711 |
| 発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム |
| 出願人/権利者 | 東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 | 特開2020-129648 |
| 登録番号 | 特許第0007236284号 |
- サブスク
- 譲渡
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