酸化物膜の微細形状・パターニングが可能な革新的な形成方法
国立大学法人金沢大学
石川県金沢市角間町 金沢大学内
この技術でできること
当該技術は、基板の表面にフォトレジスト材料を用いて特定の微細形状またはパターニングされたフォトレジスト層を形成する手段を提供します。その後、前述の表面に非晶質CaO膜を形成し、溶剤に浸漬してフォトレジスト層を有する部分を除去します。その後、表面に酸化物の膜を成長させ、最終的に水に浸漬して非晶質CaO膜を有する部分を除去します。この方法により、微細な形状またはパターニングされた酸化物膜を形成することが可能となります。特に、酸化物膜は強誘電特性、圧電特性、高温超電導特性、半導体特性、または導電性のいずれかを有することが好ましいとされています。
本発明は、微細加工された酸化物の膜の形成方法を提供し、より精密な制御を可能にします。
相談したいこと
技術の特徴
AIによる特許活用案
高精度なパターニングによる電子部品の製造
高精度なパターニングが可能なこの技術は、半導体や電子部品の製造において、より複雑で微細な形状の部品の製造を可能にします。これにより、性能や信頼性を向上させることができます。
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参考情報
活用条件
- サブスクリプション・未選択
- 権利譲渡・未選択
- ライセンス契約・未選択
- 商品化・サービス化
- ASK
- 実証実験
- ASK
- サンプル・プロトタイプ
- ASK
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権利概要
- 出願番号
- 特願2019-141853
- 発明の名称
- 微細加工された酸化物の膜の形成方法
- 出願人／権利者
- 国立大学法人金沢大学
- 住所
- 石川県金沢市角間町 金沢大学内
- 公開番号
- 特開2021-026062
- 登録番号
- 特許第7357903号