国立大学法人金沢大学
酸化物膜の微細形状・パターニングが可能な革新的な形成方法
国立大学法人金沢大学
酸化物膜の微細形状・パターニングが可能な革新的な形成方法
当該技術は、基板の表面にフォトレジスト材料を用いて特定の微細形状またはパターニングされたフォトレジスト層を形成する手段を提供します。その後、前述の表面に非晶質CaO膜を形成し、溶剤に浸漬してフォトレジスト層を有する部分を除去します。その後、表面に酸化物の膜を成長させ、最終的に水に浸漬して非晶質CaO膜を有する部分を除去します。この方法により、微細な形状またはパターニングされた酸化物膜を形成することが可能となります。特に、酸化物膜は強誘電特性、圧電特性、高温超電導特性、半導体特性、または導電性のいずれかを有することが好ましいとされています。
つまりは、本発明は、微細加工された酸化物の膜の形成方法を提供し、より精密な制御を可能にします。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業化学産業
- 高精度なパターニングによる電子部品の製造
- パワーデバイスの高効率化
- 高温超電導材料の開発
高精度なパターニングが可能なこの技術は、半導体や電子部品の製造において、より複雑で微細な形状の部品の製造を可能にします。これにより、性能や信頼性を向上させることができます。
パワーデバイス材料としての酸化物膜の形成にこの技術を利用することで、デバイスの高効率化と性能向上が期待できます。特に、酸化ガリウム等のパワーデバイス材料においては、本技術の適用が有望と考えられます。
高温超電導特性を持つ酸化物膜の形成にこの技術を適用することで、新たな高温超電導材料の開発が可能となります。これにより、エネルギー伝送効率の向上や電力損失の削減に寄与することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2019-141853 |
| 発明の名称 | 微細加工された酸化物の膜の形成方法 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人金沢大学 |
| 公開番号 | 特開2021-026062 |
| 登録番号 | 特許第0007357903号 |
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