本特許は、ステンレス鋼などの金属材料に対し、低温でも効率的に窒化膜を形成するプラズマ窒化装置に関するものです。従来のプラズマ窒化処理では、表面に硬質な拡張相（S相）を生成するために高温（450℃以上）が必要であり、低温での処理では膜形成速度が遅く、均一性も不足していました。本発明のプラズマ窒化装置（1）は、被処理材である**ステンレス鋼材（2）の近傍にニッケル製スクリーン（37）を配置し、スクリーンと被処理材の双方を直流電源（43）**の陰極に接続する構成を採用。これにより、プラズマ放電中にスクリーン表面で電子が効率的に反射・分散し、被処理材表面に到達する活性窒素イオンの密度が増加します。結果として、低温下でも短時間で拡張相層が形成され、耐摩耗性や耐食性を大幅に改善。さらに、スクリーン構造を変更することで膜厚や硬度の制御も容易です。精密部品や医療用器具など、熱影響を避けたい部材の表面処理に最適な技術です。

つまりは、ステンレス鋼の低温窒化を短時間で実現。ニッケル製スクリーンがプラズマ反応を最適化し、拡張相形成を従来より高速化する革新的処理装置です。