高効率ダイヤモンド膜研磨装置で業界をリード
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
特許JP 5917139 B2は、ダイヤモンド膜の研磨方法と装置に関する特許で、効率的で精密な研磨を可能にします。
DISCOVER TECHNOLOGY
IPMarketの公開知財から、技術と活用の可能性を見比べる。
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
特許JP 5917139 B2は、ダイヤモンド膜の研磨方法と装置に関する特許で、効率的で精密な研磨を可能にします。
国立研究開発法人物質・材料研究機構
本特許は、夫囲気ガス圧力を低くし、良好なプラズマを安定生成しながら、高品質のスパッタ成膜が得られるコンビナトリア...
国立研究開発法人物質・材料研究機構
真空環境下で、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽・射出を制御し、薄膜や多層膜、多元...
LOHAS JAPAN株式会社
温水を昇温・降温し患者の体温を制御、特定部位を冷却することでウィルスやがん細胞を死滅させる全身浸漬温熱治療装置
国立大学法人 千葉大学
画像の消え残りを低減し、鮮明な表示を可能にするエレクトロクロミック表示素子とその製造方法
島根県、日本重化学工業株式会社、竹内電機株式会社、吉田 豊信
セラミック焼結体に導電性、誘電性、熱伝導性などの機能性を付与する新たな技術
国立大学法人東京農工大学
半導体の品質と性能を確認するための、高精度な光誘起キャリヤライフタイム測定装置の開発