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【国立研究開発法人産業技術総合研究所】低温下での安定したフェニルホスフィン酸メンチルの製造技術

フェニルホスフィン酸メンチルの製造方法。

エーテル溶媒中で低温反応を行い、安定したフェニルホスフィン酸メンチルを生成する技術

特許内容の解説

本発明は、-10℃から-100℃の低温下で、メンチル基とジクロロフェニルホスフィンを反応させ、加水分解によってフェニルホスフィン酸メンチルを製造する方法に関するものです。この技術は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を使用して安定した製品を生成し、医薬品や化学品の製造に応用されます。

AIによる特許活用案

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  • 高精度な化学品製造プロセスへの応用
  • 低温下での反応制御を行い、精密化学品の製造プロセスに応用する技術。

  • 権利概要
出願番号特願2004-329205
出願日2004/11/12
発明の名称フェニルホスフィン酸メンチルの製造方法。
出願人/権利者国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所東京
公開番号特開2006-137710
登録番号特許第4649590号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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