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【国立研究開発法人産業技術総合研究所】低速陽電子パルスビーム装置で高精度な材料評価を実現

低速陽電子ビーム装置

ニッケルメッシュを使用した低速陽電子パルスビーム装置の新技術

特許内容の解説

本発明は、ニッケルメッシュを減速材として使用し、材料評価の精度を向上させる低速陽電子パルスビーム装置に関するものです。低速陽電子を利用することで、材料内部の欠陥を精密に検出でき、特に半導体材料や金属の評価に応用されます。

AIによる特許活用案

おすすめ陽電子ビーム 材料評価 半導体技術

  • 半導体材料の評価への応用
  • 低速陽電子パルスビームを用いて、半導体材料内部の欠陥を高精度で検出する技術。

  • 金属材料の非破壊検査への応用
  • 金属材料の内部欠陥を非破壊で検出するために、低速陽電子パルスビーム技術を応用。

  • 材料開発における品質管理技術
  • 低速陽電子パルスビーム装置を使用して、材料開発の段階で品質を管理し、製品の信頼性を向上させる。

  • 権利概要
出願番号特願2004-253129
出願日2004/08/31
発明の名称低速陽電子パルスビーム装置
出願人/権利者国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所東京
公開番号特開2006-071365
登録番号特許第4340773号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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