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【学校法人東京電機大学】表面孔及び/又は微細突起を備えたシリコン微粒子の製造方法

スケールアップも容易なシリコン微粒子の表面加工方

簡易な操作と安価な材料を用いる点はそのままに、スケールアップも容易なシリコン微粒子の表面加工方法が提供される。

特許内容の解説

フッ化水素酸及び遷移金属イオンを含む溶液にシリコン微粒子を浸漬することで、前記シリコン微粒子の表面に遷移金属粒子を析出させるとともに、当該析出に伴って、前記遷移金属粒子との接触部が酸化された前記シリコン微粒子の表面をフッ化水素酸でエッチングする第一エッチング工程と、
前記第一エッチング工程を経た混合液に酸化剤を添加してこれらを混合しながら反応させる第二エッチング工程と、を備え、
前記第一エッチング工程にて、前記遷移金属イオンが、溶液中濃度として0.7mmol/L~40mmol/Lとなるように添加されることを特徴とする表面孔及び/又は微細突起を備えたシリコン微粒子の製造方法。

  • 権利概要
出願番号特願2022-006070
出願日2022/01/19
発明の名称表面孔及び/又は微細突起を備えたシリコン微粒子の製造方法
出願人/権利者学校法人東京電機大学
住所
公開番号特開2023-105

特許取得国:

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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